En prisión preventiva quedó un imputado formalizado por la Fiscalía de Alto Hospicio, tras ser detenido durante el funeral de alto riesgo de las víctimas del doble homicidio ocurrido este martes, por poseer y accionar fuegos artificiales.
En la audiencia de formalización, el fiscal Javier Gutiérrez informó que los hechos ocurrieron el 18 de febrero de 2026, en el contexto del reforzamiento de seguridad dispuesto en el cementerio municipal de Alto Hospicio, luego que la Delegación Presidencial calificara como de alto riesgo las exequias de las víctimas del doble homicidio registrado el pasado martes en el sector Canadela de la comuna.
Mientras se desarrollaba la ceremonia, personal de Carabineros que resguardaba el recinto advirtió detonaciones y la emisión de humo, constatando el uso de elementos pirotécnicos. A partir de la revisión de cámaras de seguridad y entrevistas a testigos, se logró identificar al imputado J.E.V.A., de 22 años y nacionalidad chilena, como la persona que habría accionado dichos artefactos. Una vez concluido el funeral, personal policial procedió a su detención, verificando además que portaba otros dos elementos del mismo tipo.
Durante la audiencia, el fiscal expuso los informes de las diligencias realizadas por Carabineros, incluyendo registros audiovisuales que captaron el momento de las detonaciones. Asimismo, se presentó la resolución de la Delegación Presidencial que, sobre la base de antecedentes policiales, determinó la calificación de alto riesgo para la actividad, lo que fue debidamente comunicado a los familiares de las víctimas.
“El legislador, en el último tiempo, se ha preocupado especialmente de esta situación; se ha dado un énfasis especial, se ha dictado una reglamentación al respecto y se han elevado las penas para las personas que justamente son sorprendidas en estas circunstancias”, explicó el fiscal.
Atendidos los antecedentes del imputado, el tribunal acogió la solicitud del Ministerio Público y decretó su prisión preventiva, fijando un plazo de investigación de 60 días.